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先导基电 funding history / development milestones

IPO上市，

1993.04.07，

Note: collected from public online reports, for reference only.

Talent Demand Trend Analysis More

电子设备 +32%

半导体刻蚀 +64%

离子注入机 +250%

薄膜沉积 +103%

刻蚀工艺 +67%

离子注入设备 +118%

离子注入 +109%

电子真空泵 -14%

半导体设备 +114%

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