湖南普照信息材料有限公司是中国国内目前*一家从事高精度光掩模基版材料（匀胶铬版）研发、生产与销售的专业厂家。公司创立于2003年8月，位于长沙国家高新技术产业开发区麓谷，注册资本金10596.530万元，由湖南电子信息产业集团有限公司控股,*终控制人湖南湘投控股集团有限公司，为国有控股企业。匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料，具有高感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨、易清洗、使用寿命长等优点。当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP等产品掩膜版的制作，前景相当广阔。公司着眼于高端、立足国内、面向世界。*的设备和工艺，*高洁净度达到10级的超洁净厂房，以及科学严格的质量保障体系，保证了产品高精度的品质。产品不仅填补国内空白，彻底改变了国内长期以来高精度匀胶铬版几乎全部依靠进口的状况，并出口韩国、日本、美国、德国、台湾、香港等国家和地区，2008年10月匀胶铬版项目被国家发改委授予“国家高技术产业化十年成就奖”，全国获此奖项的仅100个高技术项目，充分肯定了公司在行业内的作用和地位。
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